何刚

作品数：1被引量：14H指数：1
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供职机构：安徽大学物理与材料科学学院更多>>
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发文领域：电子电信一般工业技术理学更多>>
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原子层沉积技术的发展现状及应用前景被引量：14
《真空科学与技术学报》2014年第4期413-420,共8页魏呵呵 何刚 邓彬 李文东 李太申 
随着微电子行业的发展,集成度不断提高、器件尺寸持续减小,使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战,然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术,因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好,还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分,...
关键词：原子层沉积技术 薄膜沉积 高K材料 光学薄膜 催化剂 
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