彭洁

作品数：4被引量：5H指数：1
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供职机构：南京航空航天大学材料科学与技术学院更多>>
发文主题：射频磁控溅射UV-VIS光谱退火温度GE/SIA-MG-NI更多>>
发文领域：一般工业技术理学金属学及工艺更多>>
发文期刊：《材料工程》《化工新型材料》《电子器件》更多>>
所获基金：江苏省自然科学基金中央级公益性科研院所基本科研业务费专项国家大学生创新性实验计划项目国家大学生创新性实验计划更多>>
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退火温度对Ge/SiO_2多层膜的结构和光学性能的影响
《材料工程》2014年第9期100-105,共6页彭洁 李子全 刘劲松 蒋明 许奇 
江苏省自然科学基金项目(BK2009379)
采用磁控溅射技术在石英衬底上制备出(Ge/SiO2)15多层膜,并在不同温度下对其进行退火处理。XRD和Raman结果表明:溅射态的薄膜为非晶态,当退火温度为500℃时开始出现明显的结晶衍射峰,随后晶化率明显增大,当600℃后,薄膜的晶化率几乎不变...
关键词：贮氢电极合金 Mo替换 相结构 电化学性能 
Mo对A_2B_7型La-Mg-Ni贮氢电极合金相结构及电化学性能的影响被引量：4
《材料工程》2014年第9期32-38,共7页蒋明 李子全 刘劲松 彭洁 谢理明 
江苏省自然科学基金项目(BK2009379);南京航空航天大学基本科研业务费专项科研项目(1006-56XNA12069);南京航空航天大学引进人才基金(1006-909308)
采用磁控溅射技术在石英衬底上制备出(Ge/SiO2)15多层膜,并在不同温度下对其进行退火处理。XRD和Raman结果表明:溅射态的薄膜为非晶态,当退火温度为500℃时开始出现明显的结晶衍射峰,随后晶化率明显增大,当600℃后,薄膜的晶化率几乎不变...
关键词：Ge/SiO2多层薄膜 射频磁控溅射 退火温度 UV-VIS光谱 小角度X射线衍射 
Ge/SiO_2和Ge/ZnO/SiO_2薄膜的磁控溅射制备及电学性能被引量：1
《化工新型材料》2012年第4期103-105,共3页余乐 刘劲松 李子全 陈建康 何明霞 彭洁 曹安 刘建宁 蒋维娜 万龙 
江苏省自然科学基金(BK2009379);国家大学生创新性实验计划项目(20101028727);南京航空航天大学基本科研业务费专项科研项目(1006-56Y1064)和南京航空航天大学引进人才基金(1006-909308)资助
采用射频磁控溅射方法以石英玻璃为衬底分别沉积制备出了Ge/SiO2和Ge/ZnO/SiO2薄膜。X射线衍射表明薄膜展示了明显的ZnO衍射峰和较弱的Ge衍射峰;傅里叶变换红外光谱曲线证明薄膜均具有各自的特征吸收峰;扫描电镜结果显示薄膜为颗粒状团...
关键词：射频磁控溅射 Ge/SiO2薄膜 Ge/ZnO/SiO2薄膜 电流-电压性能 
(Si/Ge)_n多层薄膜的设计制备及光吸收性能被引量：1
《电子器件》2012年第1期1-6,共6页何明霞 刘劲松 李子全 曹安 刘建宁 丛孟启 蒋维娜 彭洁 余乐 
江苏省自然科学基金项目(BK2009379);国家大学生创新性实验计划(20101028727);南京航空航天大学基本科研业务费专项科研项目(1006-56Y1064);南京航空航天大学引进人才基金(1006-909308)
采用射频磁控溅射技术,在石英玻璃衬底上沉积了具有不同层数和厚度的(Si/Ge)n多层薄膜。XRD、Raman光谱测试表明,溅射态薄膜为微晶结构,在溅射过程中层间扩散形成Si-Ge振动键,溅射时间和薄膜层数影响着薄膜层间的扩散和结晶率;FESEM结...
关键词：(Si/Ge)n多层薄膜 射频磁控溅射 层数 厚度 UV-VIS光谱 
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