朱达

作品数：3被引量：3H指数：1
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供职机构：南京大学更多>>
发文主题：多层膜化学气相淀积A-SI:HSIO传感系统更多>>
发文领域：理学电子电信一般工业技术自动化与计算机技术更多>>
发文期刊：《物理学报》《科学通报》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金国家重点基础研究发展计划江苏省自然科学基金更多>>
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含氢a-Si:H/SiO_2多层膜的蓝光发射及其发光机理研究
《科学通报》2004年第20期2045-2048,共4页朱达 马忠元 梅嘉欣 韩培高 黄信凡 陈坤基 
在等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统中,采用a-SiH层淀积与原位等离子体氧化相结合逐层生长的方法成功制备了一个系列的不同a-SiH子层厚度的含氢a-SiH/SiO2多层膜,在室温下用肉眼观察到了较强的光致蓝光发射,与此同时还观察到其发光...
关键词：a-Si:H/SiO2多层膜 蓝光发射 发光机理 等离子体氧化 量子限制 化学气相淀积 
激光限制结晶技术制备nc-Si/SiO_2多层膜被引量：3
《物理学报》2004年第12期4303-4307,共5页乔峰 黄信凡 朱达 马忠元 邹和成 隋妍萍 李伟 周晓辉 陈坤基 
国家自然科学基金(批准号 :90 10 10 2 0 ;10 1740 3 5 ;90 3 0 10 0 9);国家重点基础研究发展规划(批准号:2 0 01CB610 5 0 3 );高等学校博士学科点专项科研基金(批准号:2 0 0 10 2 840 3 5 )资助的课题~~
在等离子体增强化学气相淀积系统中 ,采用a Si:H层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了a Si:H SiO2 多层膜 .在激光诱导限制结晶原理基础上 ,使用KrF准分子脉冲激光为辐照源 ,对a Si:H SiO2 多层膜进行辐照 ,使纳米级厚度...
关键词：a-Si:H RAMAN散射 化学气相淀积 激光辐照 生长技术 等离子体增强 多层膜 SiO2 电子衍射 结晶原理 
原位等离子体逐层氧化a-Si:H/SiO_2多层膜的光致发光研究
《物理学报》2004年第8期2746-2750,共5页马忠元 黄信凡 朱达 李伟 陈坤基 冯端 
国家自然科学基金 (批准号 :10 1740 3 5 ;90 10 10 2 0 ;10 0 2 3 0 0 1);江苏省自然科学基金 (批准号 :BK2 0 0 10 2 8;BG2 0 0 10 0 2 )资助的课题~~
采用在等离子体增强化学汽相沉积系统中沉积a Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a Si:H SiO2 多层膜 .改变a Si:H层的厚度 ,首次在室温下观察到来自a Si:H SiO2 多层膜较强的蓝色光致发光和从 4 6 5到 4 35nm的蓝移 .x射线能谱证明 ...
关键词：a-Si:H/SiO2多层膜 光致发光 等离子体增强化学汽相沉积法 薄膜结构分析 光谱蓝移 
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