等离子体增强

作品数：341被引量：738H指数：9
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低温等离子体增强UV-LED对乙酸丙酯降解的效果与机理
《环境科学学报》2025年第2期453-461,共9页王宇晨 李济吾 唐秀娟 
浙江省基础公益研究计划项目(No.LGF22E080001)。
采用低温等离子体(NTP)增强紫外发光二极管(UV-LED)有望提高挥发性有机污染物的降解率.实验研究了NTP增强UV-LED降解乙酸丙酯的影响因素,并通过GC-MS探讨了NTP增强UV-LED降解乙酸丙酯的产物.结果表明,NTP+UV-LED降解乙酸丙酯的降解率与U...
关键词：空气治理 低温等离子体 紫外发光二极管 挥发性有机化合物 
氧气流量对等离子体增强化学气相沉积硅氧烷涂层的防原子氧性能的影响
《硅酸盐学报》2025年第1期1-9,共9页王虎 王兰喜 周晖 李学磊 杨淼 李坤 倪壮 李中华 王志民 左华平 何延春 
国家重点研发计划(2022YFB3806300)。
低轨环境下的原子氧是造成聚酰亚胺薄膜被剥蚀失效的关键因素,硅氧烷涂层是对聚酰亚胺薄膜进行空间原子氧防护的重要手段。利用等离子体增强化学气相沉积的方法在聚酰亚胺薄膜基材上在不同氧气流量下制备了硅氧烷涂层,研究了氧气流量对...
关键词：氧气流量 等离子体增强化学气相沉积 硅氧烷 涂层 防原子氧 
压强对HfO_(2)薄膜表面石墨烯合成的影响研究
《稀有金属与硬质合金》2024年第6期75-81,共7页武海进 王伟 杨玉帅 樊瑞祥 
河北省自然科学基金项目(F2019202377)。
采用真空电子束蒸镀工艺制备HfO_(2)高K介质薄膜,并在HfO_(2)衬底表面使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺无转移制备石墨烯。通过GIXRD、AFM、阻抗分析仪和激光拉曼光谱仪等,研究了生长温度对HfO_(2)薄膜微观结构、表面形貌和介...
关键词：HfO_(2) 石墨烯 薄膜 高K介质 真空电子束蒸镀 等离子体增强化学气相沉积 生长温度 压强 
基于复合过渡层的DLC涂层残余热应力仿真分析
《材料热处理学报》2024年第11期224-233,共10页黄珂 顾德华 邵思武 乔自平 李君安 陈良贤 刘金龙 李成明 魏俊俊 
利用ANSYS软件热固耦合模块对类金刚石(DLC)涂层的残余热应力进行有限元分析,模拟等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备DLC涂层从沉积温度150℃降温至22℃的过程,研究不同DLC厚度、过渡层(Cr、WC)结构及过渡层厚度对DLC涂层残余热应力...
关键词：等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 类金刚石(DLC) 复合过渡层 ANSYS 残余热应力 
CVD金刚石膜研究进展
《真空科学与技术学报》2024年第10期841-852,共12页权乐 
江钻公司科研项目(JZ2022002-4)。
金刚石由于其优异的声、光、电、热和力学性能,是重要的功能材料之一。金刚石的制备方法主要有高温高压方法和低压化学气相沉积方法。化学气相沉积法因制备得到的样品质量高、面积大,设备简单、可规模化等特性,是合成金刚石膜的重要方...
关键词：金刚石膜 化学气相沉积 等离子体增强化学气相沉积 热丝化学气相沉积 燃烧火焰化学 气相沉积 
医用钛表面石墨烯薄膜的PECVD法制备及其性能
《表面技术》2024年第8期156-162,190,共8页张宪明 蔡丁森 钱仕 
宁波市高层次人才和高端创业创新团队资助项目(2018A-09-C);国家自然科学基金面上项目(31971259)。
目的在医用钛表面制备石墨烯薄膜,研究生长时间对石墨烯薄膜理化性能和生物学性能的影响。方法采用等离子体增强化学气相沉积设备,在医用钛表面制备石墨烯薄膜,控制石墨烯薄膜生长时间为5、10、30 min。通过拉曼光谱、扫描电子显微镜、...
关键词：等离子体增强化学气相沉积 医用钛 石墨烯 耐腐蚀性 细胞相容性 
异质a-C:H/a-C:H:F配副的摩擦学行为研究被引量：2
《表面技术》2024年第7期107-115,共9页唐诗琪 邢朝阳 王圆圆 张俊彦 张斌 
甘肃省重点研发计划国际合作专项(20YF8WA006)。
目的研究F元素掺杂非晶碳基薄膜与a-C:H薄膜摩擦配副的摩擦学行为机制。方法利用PECVD法在Si基底上制备a-C:H:F薄膜,与直径为6.0mm的a-C:H薄膜摩擦对偶球组成摩擦配副体系,使用往复模式的CSMTRB3摩擦机研究a-C:H:F薄膜的摩擦学特性,频率...
关键词：摩擦学性能 F元素掺杂改性 类金刚石薄膜 等离子体增强化学气相沉积 
等离子体增强化学气相沉积设备的技术要点及性能分析被引量：1
《模具制造》2024年第7期150-152,共3页任想想 
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种重要的表面涂覆技术,可用于制备薄膜材料。对此,需要研究并分析等离子体增强化学气相沉积设备的技术要点和性能,介绍PECVD设备的基本构成和工作原理,研究PECVD设备的关键技术要点。其中,气体供给...
关键词：等离子体 化学气相沉积设备 技术要点 性能分析 
管式PECVD工艺对“SE+PERC”晶体硅太阳电池镀膜均匀性的影响及改善研究被引量：1
《太阳能》2024年第6期41-50,共10页张福庆 张若凡 王贵梅 胡明强 张鹏程 
针对在“SE+PERC”晶体硅太阳电池制备过程中,采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺沉积正面钝化介质膜后,硅片正面会出现角部发红色差,即镀膜均匀性异常的问题,通过实验,对硅片厚度、工器具状态、背面膜层结构、正面钝化介质...
关键词：管式等离子体增强化学气相沉积 “SE+PERC”太阳电池 硅片 沉积工艺 薄膜应力 石墨舟 射频功率 色差 
等离子体增强原子层沉积二氧化硅对多晶硅的损伤机理及防范工艺研究
《真空科学与技术学报》2024年第6期552-558,共7页何亚东 袁刚 李拓 周毅 程晓敏 霍宗亮 
文章通过电子束检测(EBI)手段研究了等离子体增强原子层沉积(PEALD) SiO_(2)过程中硅烷基酰胺类前驱体副产物对多晶硅产生不可逆损伤的机理。提出用单胺基硅烷基酰胺替代多胺基硅烷基酰胺作为前驱体,来减轻对多晶硅材料的损伤。在不损...
关键词：等离子体增强原子层沉积 硅烷基酰胺 氧化硅 二异丙胺硅烷(DIPAS) 
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