李卫

作品数：6被引量：20H指数：3
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供职机构：南京大学物理学院固体微结构物理国家重点实验室更多>>
发文主题：纳米阵列纳米晶粒纳米光电子器件纳米电子光学性质更多>>
发文领域：理学一般工业技术经济管理自动化与计算机技术更多>>
发文期刊：《红外与毫米波学报》《发光学报》《物理学报》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划中国博士后科学基金江苏省高等学校自然科学基金更多>>
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基于第一性原理的二维材料黑磷砷气体传感器的机理研究被引量：8
《物理学报》2021年第15期241-248,共8页徐强 段康 谢浩 张秦蓉 梁本权 彭祯凯 李卫 
中国博士后科学基金(批准号:2018T110480);江苏省高等学校自然科学基金(批准号:20KJA510001);华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室开放基金(批准号:2020-skllmd-03);东南大学毫米波国家重点实验室开放基金(批准号:K202003);南京大学固体微结构物理国家重点实验室开放基金(批准号:M32001);江苏省光通信工程技术研究中心开放基金(批准号:ZXF201904)资助的课题.
通过密度泛函理论计算,研究了气体小分子吸附在单层黑磷砷表面的电学和磁学特性.选择4个初始吸附点位来探索CO,CO_(2),NH3,SO_(2),NO和NO_(2)气体分子最优的吸附位置,计算了吸附能、吸附距离和电荷转移等电子结构参数,确定了吸附类型和...
关键词：黑磷砷 第一性原理 气体传感器 
室温下Ⅱ-Ⅵ族纳米晶粒在Si衬底上的化学自组装被引量：1
《红外与毫米波学报》2008年第3期176-179,共4页赵伟明 甘新慧 戴明 徐岭 孙萍 李卫 马懿 马忠元 吴良才 徐骏 陈坤基 
国家自然科学基金(10574069,90301009,60425414);国家(973)重点基础研究发展规划(2007CB935400)
应用胶体化学的方法,在溶液中合成了Ⅱ-Ⅵ族化合物—CdSe,CdTe纳米晶粒.紫外-可见光吸收谱(ABS)和光致荧光谱(PL)显示Ⅱ-Ⅵ族纳米晶粒具有良好的单分散性.在室温下利用双功能分子在S i衬底表面组装了Ⅱ-Ⅵ族纳米晶粒,原子力显微镜图像...
关键词：半导体纳米晶体 自组装 双功能分子 刻蚀 
利用胶体小球掩蔽刻蚀技术制备的半导体纳米阵列的场电子发射特性
《发光学报》2008年第3期573-577,共5页周江 李卫 张贤高 徐骏 徐岭 李伟 陈坤基 
国家自然科学基金(60425414);国家重大基础研究规划(2007CB613401);高等学校博士点专项基金(20070284020)资助项目
利用胶体小球掩蔽刻蚀技术,制备了单晶硅纳米阵列,利用原子力显微镜观察了硅阵列的表面形貌,实验结果表明,硅柱阵列具有高密度和较好的均匀性。同时研究了单晶硅纳米阵列的场电子发射特性。为了提高样品的场发射性能,在所制备的单晶硅...
关键词：纳米硅阵列 场发射 非晶碳 
纳米球刻蚀法制备的二维有序的CdS纳米阵列及其光学性质的研究被引量：4
《物理学报》2008年第3期1951-1955,共5页孙萍 徐岭 赵伟明 李卫 徐骏 马忠元 吴良才 黄信凡 陈坤基 
国家自然科学基金(批准号:10574069,60508009);国家重点基础研究发展计划(批准号:2007CB935400和2007CB613401)资助的课题~~
采用纳米球刻蚀(nanosphere lithography)技术,以自组装的聚苯乙烯纳米小球(polystyrene,PS小球)的单层膜为掩模,制备出二维有序的CdS纳米阵列.利用扫描电子显微镜(SEM)对样品结构进行了表征,用紫外—可见分光光度计对样品光学性质进行...
关键词：纳米球刻蚀 二维CdS纳米有序阵列 制备 光学性质 半导体材料 
基于直接胶体晶体刻蚀技术的高度有序纳米硅阵列的尺寸及形貌控制被引量：7
《物理学报》2007年第7期4242-4246,共5页李卫 徐岭 孙萍 赵伟明 黄信凡 徐骏 陈坤基 
国家自然科学基金(批准号:60571008;90301009;60471021;50472066和10574069)资助的课题.~~
以自组装单层胶体小球阵列为掩模,采用直接胶体晶体刻蚀技术在硅表面制备二维有序尺寸可控的纳米结构.在样品制备过程中,首先通过自组装法在硅表面制备了直径200nm的单层聚苯乙烯(PS)胶体小球的二维有序阵列;然后对样品直接进行反应离...
关键词：胶体晶体刻蚀 纳米硅柱阵列 形貌控制 
利用多层膜生长技术制备纳米印章模板被引量：1
《物理学报》2006年第4期2033-2037,共5页张永军 李卫 孟祥东 杨景海 华中 李伟 徐骏 黄信凡 陈坤基 
国家重点基础研究发展规划(批准号:2001CB610503;2003CD314702-02);国家自然科学基金(批准号:10174035;90301009);吉林省科技发展计划(批准号:20040506-3);吉林师范大学博士研究基金(批准号:2005074)资助的课题.
在纳米印章技术中,为克服电子束刻蚀制备50nm以下线条的技术难点,利用等离子增强化学气相沉积技术制备了a-Si/SiNx多层膜,再利用选择性湿法腐蚀或干法腐蚀在横截面上制备出浮雕型一维纳米级模板.多层膜子层之间界面清晰陡峭,可以在纳米...
关键词：纳米印章模板 多层膜生长技术 电子束刻蚀 等离子 化学气相沉积技术 
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