云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 郑秋云

郑秋云: 作品数：1被引量：1H指数：1; 导出分析报告; 供职机构：湘潭大学更多>>; 发文主题：化学机械抛光磁流体数值模拟MAXWELL方程CMP更多>>; 发文领域：理学经济管理金属学及工艺更多>>; 发文期刊：《力学学报》更多>>; 所获基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金教育部科学技术研究重点项目更多>>

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考虑对流效应和磁场的CMP模型及其数值模拟被引量：1: 《力学学报》2010年第6期1060-1067,共8页郑秋云李明军舒适; 国家自然科学基金(10771178);国家自然科学基金委员会-中国工程物理研究院联合基金(10676031);国家“863”高技术惯性约束聚变专题,教育部博士点基金(20070530003);教育部重点项目(208093)资助~~; 推导了具有对流效应的化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)润滑模型,研究各参数对压力场分布的影响.在此模型基础上,研究了磁流体抛光液在外界磁场作用下的润滑模型,以及外磁场对抛光过程中压力场分布的影响.数值结果表明...; 关键词：化学机械抛光润滑模型磁流体 (抛光液)对流效应晶片