候岳翔

作品数：1被引量：6H指数：1
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CVD-W晶粒取向和晶界结构的EBSD研究被引量：6
《中国体视学与图像分析》2007年第4期286-288,共3页孙红婵 李树奎 候岳翔 鲁旭东 郭伟 
采用电子背散射衍射技术(EBSD)测定了化学气相沉积纯钨(CVD-W)的晶粒取向和晶界分布特征,研究化学气相沉积方法制备纯钨的组织和晶界结构的特点。测试结果表明:CVD-W生长组织具有三个生长区,分别是等轴晶区、混合生长晶区和柱状晶区;柱...
关键词：晶粒取向 晶界结构 CVD EBSD 
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