周春峰

作品数：1被引量：8H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文主题：EPD位错密度漂移速度砷化镓材料砷化镓更多>>
发文领域：环境科学与工程更多>>
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砷化镓材料被引量：8
《科技创新导报》2010年第32期75-77,共3页王建利 牛沈军 兰天平 周春峰 孙强 
文章介绍了Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料——砷化镓。从砷化镓材料的基本性质、参数出发,深入浅出地讨论了其相关性质形成的机理,以及与这些性质、参数相对应的有关半导体器件方面的应用情况,同时指出了为了适应器件的需求,如何在制造过程...
关键词：砷化镓 半导体材料 迁移率 能带结构 掺杂剂 载流子浓度 位错密度(EPD) 饱合漂移速度 
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