任世荣

作品数：2被引量：2H指数：1
导出分析报告
供职机构：南开大学更多>>
发文主题：迁移率IN2O3WO3电子束当代农民更多>>
发文领域：电气工程理学农业科学经济管理更多>>
发文期刊：《人工晶体学报》《光电子．激光》更多>>
所获基金：天津市应用基础与前沿技术研究计划中央高校基本科研业务费专项资金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-2
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
电子束沉积In_2O_3基W-Mo共掺薄膜的特性研究
《光电子．激光》2011年第4期550-554,共5页任世荣 陈新亮 张存善 李林娜 张德坤 孙建 耿新华 赵颖 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2011CB201605;2011CB201606&2011CB201607);国家高技术研究发展计划资助项目(2009AA050602);天津市应用基础及前沿技术研究计划资助项目(09JCYBJC06900);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(65010341)
利用电子束反应沉积技术制备了高迁移率In2O3基W-Mo共掺(IMWO,In2O3:WO3/MoO3)薄膜,研究了不同等量WO3-MoO3掺杂浓度对薄膜的微观结构、光学性能和电学性能的影响。IMWO薄膜的表面形貌呈现"类金字塔"型。随着WO3-MoO3共掺量的增加,IMWO...
关键词：电子束沉积技术 In2O3:WO3/MoO3(IMWO)薄膜 共掺技术 高迁移率 
SiO2阻挡层对电子束沉积法生长高迁移率IWO薄膜性能的影响被引量：2
《人工晶体学报》2011年第4期843-847,共5页任世荣 陈新亮 张存善 孙建 张晓丹 耿新华 赵颖 
国家重点基础研究发展计划(No.2011CBA00705,2011CBA00706&2011CBA00707);天津市应用基础及前沿技术研究计划(No.09JCYBJC06900);中央高校基本科研业务费专项资金项目(No.65010341)
利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2...
关键词：电子束沉积技术 SiO2阻挡层 IWO薄膜 高迁移率 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部