倪尔瑚

作品数:1被引量:1H指数:1
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供职机构:桂林电子工业学院通信与信息工程系更多>>
发文主题:BI4TI3O12SI基微观结构钛酸铋退火温度更多>>
发文领域:一般工业技术电气工程更多>>
发文期刊:《材料工程》更多>>
所获基金:国家自然科学基金更多>>
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退火温度对Si基Bi_4Ti_3O_(12)铁电薄膜微观结构影响研究被引量:1
《材料工程》2002年第11期29-31,47,共4页王华 于军 王耘波 倪尔瑚 
国家自然科学基金项目资助 (697710 2 4);广西教育厅基金项目资助 (桂教科研 2 0 0 15 6)
采用 Sol- Gel工艺制备了 Si基 Bi4 Ti3O1 2 铁电薄膜。研究了退火温度对 Si基 Bi4 Ti3O1 2 薄膜晶相结构、晶粒尺寸及薄膜表面形貌的影响。研究表明 ,退火温度低于 4 5 0℃时 Bi4 Ti3O1 2 薄膜为非晶状态 ,退火温度在 5 5 0~ 85 0℃...
关键词:Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜 铁电薄膜 BI4TI3O12 微观结构 退火温度  钛酸铋 
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