吕志军

作品数：2被引量：1H指数：1
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错位叠加曝光法制作楔形斜面微结构研究
《液晶与显示》2021年第3期398-404,共7页董立文 宋晓欣 顾仁权 张锋 袁广才 姚琪 吕志军 刘文渠 崔钊 
本文研究了基于T公司生产的某型号正性光阻,采用错位叠加紫外曝光工艺,实现灰阶曝光效果的方法,最终得到具有特定角度的楔形斜面结构。光阻在进行紫外感光前后,对紫外光的吸收系数α会发生变化,根据朗伯比尔定律(Lambert-Beer law),将...
关键词：楔形斜面 朗伯比尔定律 错位叠加曝光 吸收系数 临界曝光能量 
光刻法图案化石墨烯研究被引量：1
《液晶与显示》2019年第1期33-38,共6页吕志军 张锋 刘文渠 董立文 宋晓欣 崔钊 王利波 孟德天 
介绍了光刻法石墨烯的制备方法,分析了光刻工艺过后石墨烯方阻升高的不良机理,并给出了相应的优化方案。首先,根据半导体工艺研发制程完成石墨烯图案化工艺方案,并对工艺方案进行有效优化。接着,分析了石墨烯光刻法图案化后方阻升高的...
关键词：光刻 石墨烯 方块电阻 关键尺寸 
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