朱承泉

作品数：1被引量：1H指数：1
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供职机构：兰州大学更多>>
发文主题：高压电源静电纺丝技术纳米材料连续式助推器更多>>
发文领域：理学一般工业技术更多>>
发文期刊：《物理学报》更多>>
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非化学计量比靶材溅射制备Cu-Al-O薄膜的光学电学性质研究被引量：1
《物理学报》2011年第11期613-617,共5页潘佳奇 朱承泉 李育仁 兰伟 苏庆 刘雪芹 谢二庆 
国家自然科学基金(批准号:50802037)资助的课题~~
考虑到铜铝溅射速率的差别,使用铜铝比例为0.9:1的多晶CuAlO2靶材,用射频磁控溅射法制备Cu-Al-O薄膜.研究不同衬底温度对薄膜光学电学性能的影响.在衬底温度500℃附近,薄膜在可见光范围内具有很好的透光性,达到70%,计算拟合得到直接帯隙...
关键词：Cu-Al-O 衬底温度 透过率 电导率 
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