李爱军

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供职机构：西安电子科技大学更多>>
发文主题：高密度等离子体数值模拟CVD设备化学气相淀积等离子体源更多>>
发文领域：电子电信核科学技术理学更多>>
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高密度等离子体工艺总体模型初探
《核聚变与等离子体物理》2001年第1期7-12,共6页杨银堂 李爱军 
国防科技预研基金资助项目 !( 99J8 3 2DZ0 137);教育部"跨世纪优秀人才基金"资助项目
介绍了与高密度等离子体工艺相关的模型和数值模拟方法 ,即连续流和动力学方法。在漂流 扩散方程的连续流模型和单元粒子 蒙特卡罗碰撞动力学模型的基础上 ,提出了一个等离子体工艺模型。讨论了对等离子体鞘层、等离子体刻蚀和淀积过...
关键词：等离子体 数值模拟 等离子体工艺 连续流动力学 总体模型 等离子体源 
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