刘瑞兰

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P型双质掺杂技术在快速晶闸管生产中的应用
《半导体技术》1996年第5期28-31,共4页刘秀喜 薛成山 孙瑛 王显明 赵玉仁 陈刚 刘瑞兰 
高压快速晶闸管的Ｐ型双质掺杂新技术研究成功，经工艺论证和试用，该项成果具有可行性、先进性和实用性，为研究和制造快速晶闸管开辟了一条新工艺途径。本文阐述了工艺设计原理、掺杂机制、杂质浓度分布和试用结果。
关键词：快速晶闸管 P型 双质掺杂 杂质 浓度分布 
Fe_2O_3掩膜的制备研究
《山东师范大学学报（自然科学版）》1993年第2期88-91,共4页刘瑞兰 杜长英 
在制造半导体器件和集成电路时,为确定衬底材料上的图形,必须使用掩膜版。现有的掩膜材料主要有乳胶膜和铬膜。乳胶膜耐磨性差、易沾污且分辨率低;铬膜虽有较好的耐磨性,但铬作为一种金属反光很强,导致图形分辨率降低。另一方面,这两种...
关键词：掩膜 氧化铁 制备 
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