孙晓飞

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供职机构：大连理工大学更多>>
发文主题：HWCVDRF-PECVD性能研究多晶硅薄膜微晶硅薄膜更多>>
发文领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>
发文期刊：《中国表面工程》更多>>
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HWCVD与RF-PECVD复合技术制备微晶硅薄膜的性能
《中国表面工程》2012年第4期84-88,共5页孙晓飞 张贵锋 侯晓多 冯煜东 
教育部重点科技创新项目培养基金((N01707015);表面工程国家重点实验室基金(9140C540105080C5402)
采用热丝化学气相沉积(HWCVD)和射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)相结合的技术,在普通载玻片和聚酰亚胺衬底上沉积制备微晶硅薄膜。系统考查了热丝到衬底的距离对沉积薄膜结构和性能的影响规律,用拉曼光谱仪、X-射线衍射仪(XRD)、紫...
关键词：微晶硅薄膜 射频等离子体增强化学气相沉积 热丝气相沉积 
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