闫梁臣

作品数：1被引量：11H指数：1
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供职机构：北京科技大学材料科学与工程学院材料物理与化学系更多>>
发文主题：磁控共溅射磁控(TI,AL)N非金属溅射更多>>
发文领域：金属学及工艺更多>>
发文期刊：《真空科学与技术学报》更多>>
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磁控双靶反应共溅射(Ti,Al)N薄膜的研究被引量：11
《真空科学与技术学报》2005年第3期233-237,共5页闫梁臣 熊小涛 杨会生 高克玮 王燕斌 
采用磁控双靶反应共溅射技术制备出了(Ti0.5Al0.5)N耐磨硬质薄膜,其显微硬度高于35GPa,摩擦系数小于0.18。实验结果表明当N2流量较低时,(Ti,Al)N薄膜结构和性能随N2流量变化明显;当N2流量较高时,薄膜结构和性能变化缓慢。等离子体发射...
关键词：(TI AL)N 磁控共溅射 等离子体发射光谱 金属态溅射 非金属态溅射 
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