朱玉梅

作品数：2被引量：1H指数：1
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供职机构：同济大学更多>>
发文主题：HFO2薄膜高折射率激光损伤阈值HFO2玻璃镀膜更多>>
发文领域：理学一般工业技术更多>>
发文期刊：《武汉理工大学学报》《稀有金属材料与工程》更多>>
所获基金：上海市教育委员会重点学科基金国家自然科学基金上海市科委科技攻关项目国家高技术研究发展计划更多>>
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低介电常数纳米氧化硅薄膜(英文)
《稀有金属材料与工程》2010年第S2期31-35,共5页沈军 朱玉梅 林雪晶 吴广明 周斌 倪星元 姚兰芳 汪国庆 汪培庆 汪庆峰 牛锡贤 
Chinese National Foundation of High Technology (2008AA8041606,2007AA804807, 2007AA804137);Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology (07DZ22302);Shanghai Educational Development Foundation (2007CG26);Program for Young Excellent Talents in Tongji University (2006KJ052);National Natural Science Foundation of China (50752001);Shanghai Committee of Science and Technology (055211010, 0652nm044, 07JC14052)
介绍了一种新制备低介电常数 SiO2薄膜的方法。以 TEOS 为前躯体、盐酸为催化剂、CTAB 作为模版剂,采用溶胶-凝胶法制备硅溶胶,以浸渍提拉法制备薄膜。采用 FITIR、XRD 和 AFM 等方法表征了薄膜,并用阻抗分析仪测量介电常数。结果表明,...
关键词：低介电常数 薄膜 溶胶-凝胶法 
HfO2高激光损伤阈值薄膜的制备及特性研究被引量：1
《武汉理工大学学报》2007年第E01期176-179,共4页沈军 罗爱云 王生钊 欧阳玲 谢志勇 朱玉梅 
国家自然科学基金重点资助项目（21033040）,国家高技术863计划（2002AA84052）,上海科委纳米专项（0552nm08）,教育部跨世纪优秀人才计划资助项目,上海市重点学科建设资助项目（02SL001）和上海市科技攻关计划（055211010）.
采用水热合成技术，制备了HfO2胶体，用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜。采用XRD，椭偏仪，红外光谱（FTIR）等方法对薄膜进行了测试和表征，用输出波长为1064nm，脉宽为10ns的电光调Q激光系统产生的强激光测试其激光损伤阈值。研究了热处...
关键词：HFO2薄膜 旋涂工艺 热处理 高折射率 激光损伤阈值 
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