郑庆云

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供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
发文主题：CMOS硅栅CMOS集成电路多层布线电路更多>>
发文领域：电子电信更多>>
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双层金属布线硅栅CMOS门阵列电路制造工艺技术研究
《Journal of Semiconductors》1993年第1期36-42,共7页郑养鉥 张敏 凌栋忠 吴璘 顾惠芬 郑庆云 邱斌 
采用双层金属布线可以提高集成电路的集成密度、集成度和速度。本文报道了双层金属布线工艺技术成功地应用于制造标准3μm硅栅CMOS 500门、1200门、2000门多种门阵列专用大规模集成电路。本文对双层金属布线硅栅CMOS门阵列电路制造工艺...
关键词：集成电路 多层布线 CMOS 工艺 电路 
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