刘殿龙

作品数：5被引量：19H指数：3
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供职机构：清华大学材料科学与工程系更多>>
发文主题：化学镀NI-MO-P直流电沉积自组装二氧化硅更多>>
发文领域：金属学及工艺化学工程理学更多>>
发文期刊：《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》《稀有金属材料与工程》更多>>
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Growing process and reaction mechanism of electroless Ni-Mo-P film on SiO_2 substrate
《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》2013年第12期3629-3633,共5页王梅玲 杨志刚 张弛 刘殿龙 
The diffusion barrier Ni-Mo-P film for Cu interconnects was prepared on SiO2/Si substrate using electroless method. The surface morphology and composition during the formation process of electroless Ni-Mo-P film were ...
关键词：Ni-Mo-P deposit induced-deposition electroless deposition SiO2 substrate 
直流电沉积和脉冲电沉积Ni-W涂层的对比研究(英文)被引量：11
《稀有金属材料与工程》2012年第S2期707-710,共4页王梅玲 杨志刚 刘殿龙 张弛 王振强 
采用脉冲电沉积和直流电沉积方法在中碳钢基底上沉积了具有不同W含量的Ni-W涂层。应用能谱仪(EDS),扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射仪(XRD)分别表征了涂层的成分、形貌和结构,分别研究了涂层的硬度和耐腐蚀性能。结果表明,脉冲电沉积涂...
关键词：脉冲电流 Ni-W涂层 硬度 耐腐蚀性能 
超声波对Ta/SiO_2/Si基板置换活化法化学镀铜的影响被引量：1
《稀有金属材料与工程》2010年第8期1454-1459,共6页刘殿龙 杨志刚 王静 张弛 
采用置换活化法,以PdCl2/BOE/HNO3溶液对Ta/SiO2/Si基板进行活化,然后在基板上成功实现化学镀Cu薄膜。应用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线衍射(XRD)等方法,研究了活化时间及超声波对化学镀Cu薄膜表面形貌和结构的影响。结果表明,...
关键词：超声波 置换活化 化学镀 覆盖率 
直流电沉积Ni-W-P镀层研究被引量：4
《稀有金属材料与工程》2010年第1期60-64,共5页刘殿龙 杨志刚 刘璐 张弛 
采用直流电沉积法,在低碳钢表面成功沉积Ni-W-P镀层。应用X射线荧光(XRF)、扫描电子显微镜(SEM)、俄歇电子能谱(AES)、X射线衍射(XRD)仪等方法,研究电流密度、镀液pH值和镀液温度对Ni-W-P镀层成分、表面形貌和结构的影响。结果表明,电...
关键词：Ni-W-P镀层 电流密度 PH值 镀液温度 
自组装方法化学沉积NiMoP镀层研究被引量：3
《稀有金属材料与工程》2009年第5期895-900,共6页刘璐 杨志刚 刘殿龙 张弛 
应用自组装膜吸附钯的活化方法,在SiO2/Si平面基板表面化学沉积NiMoP阻挡层。应用XRF、XRD、SEM以及四探针等方法探讨了镀液中钼酸根浓度、温度及pH值对NiMoP镀层的影响。结果表明,镀层中Mo与P含量互相制约;随钼酸钠浓度上升,化学镀NiMo...
关键词：化学沉积 自组装层 NiMoP阻挡层 
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