云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 饶淑玲

饶淑玲: 作品数：1被引量：2H指数：1; 导出分析报告; 供职机构：安徽大学物理与材料科学学院更多>>; 发文主题：AR面心立方微结构平均晶粒尺寸直流磁控溅射法更多>>; 发文领域：理学化学工程更多>>; 发文期刊：《真空科学与技术学报》更多>>; 所获基金：国家自然科学基金安徽省自然科学基金安徽省教育厅科学研究项目更多>>

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Ar压强对硅基Al膜应力和微结构的影响被引量：2: 《真空科学与技术学报》2005年第2期150-153,158,共5页宋学萍饶淑玲方伟孙兆奇; 国家自然科学基金(No.59972001);安徽省自然科学基金(No.01044901);安徽省教育厅科研基金(No.2003KJ025);安徽省人材专项基金(No.2004Z029);安徽大学人材队伍建设基金资助项目; 用直流磁控溅射法在室温Si基片上制备了溅射时间分别为5min和10min,氩气压强分别为0.7、3、6Pa的6种Al膜,用光学相移法和X射线衍射法对Al膜的应力和微结构随着压强的变化进行了研究。应力分析表明在同一溅射时间,随着氩气压强的减小,Al...; 关键词：Al膜微结构应力和压强直流磁控溅射法硅基 AR X射线衍射法平均晶粒尺寸光学相移法应力分布面心立方晶体结构晶格常数分析表时间膜厚度应力差结晶度制备氩气减小增大多晶