韦春龙

作品数：1被引量：13H指数：1
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供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文主题：光栅干涉仪光栅自准直衍射外差更多>>
发文领域：机械工程理学电子电信更多>>
发文期刊：《光学学报》更多>>
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基于超精密激光直写系统制作二维光栅被引量：13
《光学学报》2019年第9期38-46,共9页李民康 向显嵩 周常河 韦春龙 贾伟 项长铖 鲁云开 朱世曜 
中国科学院前沿科学重点研究项目(QYZDJ-SSW-JSC014)
二维光栅是光刻机光栅尺系统的核心元件。搭建了超精密激光直写系统,基于二维超精密工件台,通过旋转基片90°进行两次曝光,制作出栅线密度为1200 line/mm的二维光栅掩模。原子力显微镜和扫描电镜结果表明,所制作的掩模轮廓清晰,空间分...
关键词：光栅 超精密系统 激光直写 栅距测量 
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