黄长杰

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CF_4/CHF_3反应刻蚀石英和BK7玻璃
《真空》2005年第4期49-51,共3页黄长杰 王旭迪 汪力 胡焕林 
用CF4/CHF3作为工作气体对石英和BK 7玻璃进行了研究,分析了气体组分、气体流量和射频偏压等几种因素对刻蚀速率的影响,结果表明刻蚀速率与射频偏压的均方根成正比。在1 CF4∶1CHF3的等离子体中由于与光刻胶良好的刻蚀选择比,在石英基...
关键词：石英 BK7玻璃 反应刻蚀 刻蚀速率 图形转移 表面质量 
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