云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 何素明

何素明: 作品数：1被引量：7H指数：1; 导出分析报告; 供职机构：中国科学院上海技术物理研究所更多>>; 发文主题：硅氮氧化硅硅太阳能电池钝化等离子体增强化学气相沉积更多>>; 发文领域：电气工程电子电信更多>>; 发文期刊：《物理学报》更多>>; 所获基金：中国博士后科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>

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等离子体增强化学气相沉积工艺制备SiON膜及对硅的钝化被引量：7: 《物理学报》2014年第12期366-372,共7页何素明戴珊珊罗向东张波王金斌; 国家重点基础研究发展计划(批准号:2011CB925604,2011CB922004);中国博士后科学基金(批准号:20110490075)资助的课题~~; 研究了等离子体增强化学气相沉积工艺条件对氮氧化硅膜的生长厚度及折射率的影响以及氮氧化硅/氮化硅叠层膜对p型硅片的钝化效果.实验结果表明,NH3的流量和N2O/SiH4流量比对氮氧化硅膜的影响较大,薄膜折射率能从1.48变化到2.1,厚度从30...; 关键词：氮氧化硅等离子体增强化学气相沉积背面钝化晶硅太阳能电池