唐拓

作品数：1被引量：4H指数：1
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光刻线宽精度控制的研究被引量：4
《微处理机》2005年第2期12-13,共2页姜立娟 李响 唐拓 
本文通过对涂胶、曝光等影响线宽参数的工艺进行实验,制定了一套工艺规范,使光刻线宽控制在±1 0 %以内。
关键词：光刻 线宽 
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