应浙聪

作品数:9被引量:14H指数:3
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激光诱导击穿光谱在乏燃料后处理中的应用研究进展
《冶金分析》2024年第5期38-46,共9页康晓燕 朱海巧 左臣 应浙聪 
激光诱导击穿光谱(LIBS)是一种多元素同测技术,具有制样简单、检测速度快、对环境容忍度高、可实现远程测量、具备在线分析能力等特点,在乏燃料后处理中的工艺过程控制及设施安全运行监测中具有极大优势。近年来利用激光诱导击穿光谱进...
关键词:乏燃料后处理 激光诱导击穿光谱(LIBS) 熔盐 高放废液 表面沾污 
程序升温-称量法测定1AW溶液中总氧化物含量
《化学分析计量》2023年第4期52-58,共7页康晓燕 梁馨月 罗中艳 朱海巧 应浙聪 李定明 左臣 
建立了程序升温-称量法测定1AW溶液中总氧化物含量的分析方法。利用热重分析方法和拉曼光谱分析方法对1AW溶液中关键核素的分解行为进行系统性研究,最终优选出1AW溶液的煅烧温度,并筛选样品盒材质和优化两步法升温程序的温度参数。该方...
关键词:1AW溶液 总氧化物 称重法 热重分析 
热电离质谱全蒸发技术在钚同位素丰度测量中的应用被引量:4
《质谱学报》2021年第3期305-313,I0004,共10页应浙聪 熊超杰 张丽华 李辉波 郝小娟 
对影响热电离质谱全蒸发测量的主要因素进行研究,包括点样量、同质异位素的干扰等,并将全蒸发技术与传统测量技术测量IRMM-086的结果进行对比。结果表明,全蒸发技术可在更少的点样量下获得比传统测量法更佳的测量精度,当同位素比值大于1...
关键词:热电离质谱(TIMS) 全蒸发技术  同位素比值 
TEVA-TEVA色层分离大量铀中的微量镎被引量:3
《核化学与放射化学》2020年第4期242-248,I0004,共8页应浙聪 赵胜洋 
建立了高效分离高铀镎比样品中微量镎的方法。采用TEVA-TEVA萃取色层柱分离铀产品中微量镎,经3.0 mol/L HNO3淋洗过后以0.5 mol/L(NH 4)2CO3洗脱TEVA树脂上的镎,加入HNO3分解洗脱液中的碳酸镎酰离子并将溶液调至3.0 mol/L HNO3,进行TEV...
关键词:大量铀  分离 TEVA 萃取色层 
TBP-TEVA萃取色层分离-α能谱法测定辐照镎靶溶解液中痕量^(236)Pu的可行性
《同位素》2019年第1期37-44,I0002,共9页赵胜洋 常志远 应浙聪 苏玉兰 
^(236)Pu的含量控制是钚热源的一项重要参数,通过α能谱准确测量镎靶溶解液中痕量^(236)Pu,建立镎靶辐照靶件溶解液中钚的分离方法。根据杂质组成特点采用TBP-TEVA萃取色层双柱分离,用氨基磺酸亚铁以及亚硝酸钠对钚进行调价,对靶件溶解...
关键词:钚同位素 镎靶 α能谱 痕量分析 
TEVA-UTEVA萃取色层分离后处理铀产品中镎的方法研究被引量:6
《原子能科学技术》2014年第5期786-791,共6页苏玉兰 金花 应浙聪 赵胜洋 徐琛 
本文建立了有效、定量分离后处理铀产品中镎的方法。该方法采用TEVA-UTEVA萃取色层分离后处理铀产品中的微量镎,先将镎调至四价后过TEVA萃取色层柱,再用2mol/L HNO3-0.2mol/L H2C2O4解吸吸附在TEVA树脂上的镎,最后将镎解吸液稀释后过UT...
关键词:铀产品  TEVA-UTEVA萃取色层法 分离 
TBP-TEVA萃取色层分离-同位素稀释质谱法测定后处理铀产品中的痕量钚被引量:2
《核科学与工程》2013年第3期293-298,共6页金花 徐琛 应浙聪 赵胜洋 苏玉兰 
建立了有效分离与测定核燃料后处理铀产品中痕量钚的方法。采用磷酸三丁酯(TBP)-三烷基甲基胺盐(烷基为C8-C10)(TEVA)萃取色层法进行分离,应用242 Pu稀释剂,通过同位素稀释质谱法(IDICP-MS)准确测量钚的含量。模拟样品的分离与测定结果...
关键词:铀产品  TBP—TEVA 同位素稀释质谱法(ID-ICP-MS) 
后处理工艺过程中汞的测定
《核化学与放射化学》2011年第5期318-320,共3页苏玉兰 赵立飞 应浙聪 吴继宗 
本工作建立了双硫腙萃取分离,冷原子荧光光谱法测定后处理工艺中汞的方法。研究了双硫腙萃取分离Hg的方法,优化了仪器的载气压力,方法的回收率在93%~112%,相对标准偏差为8.0%(n=6)。
关键词:双硫腙 冷原子荧光 后处理工艺 
后处理工艺料液中亚硝酸的荧光分析方法
《原子能科学技术》2010年第9期1054-1059,共6页苏玉兰 金花 应浙聪 付建丽 吴继宗 
建立了硝酸介质中测定亚硝酸的荧光分析方法。该方法以5-氨基荧光素作荧光增强剂,在酸性条件下,5-氨基荧光素与亚硝酸发生重氮化反应,其产物在碱性条件下具有很强的荧光,利用荧光光度计测定其荧光强度从而得到亚硝酸的含量。实验表明,...
关键词:亚硝酸 荧光分析 后处理工艺 
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