刘利新

作品数：2被引量：6H指数：2
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供职机构：兰州大学物理科学与技术学院电子材料研究所更多>>
发文主题：HFO和光衬底温度光学带隙晶体结构更多>>
发文领域：理学更多>>
发文期刊：《材料导报》《强激光与粒子束》更多>>
所获基金：表面工程技术国家级重点实验室基金国家自然科学基金更多>>
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溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：3
《材料导报》2012年第10期16-18,22,共4页马紫微 苏玉荣 谢毅柱 赵海廷 刘利新 李健 谢二庆 
国家自然科学基金(10776010);表面工程技术国家级重点实验室基金(9140C5401010801)
HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85%。结...
关键词：HfO2薄膜溅射法光学性能光学带隙 
衬底温度对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：4
《强激光与粒子束》2010年第1期71-74,共4页赵海廷 马紫微 李健 刘利新 张洪亮 谢毅柱 苏玉荣 谢二庆 
国家自然科学基金委员会与中国工程物理研究院联合基金项目(10776010);表面工程技术国家级重点实验室基金项目(9140C5401010801)
采用直流磁控反应溅射法,分别在室温,200,300,400和500℃下制备了HfO2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱(SE)和紫外可见光谱(UVvis)研究了衬底温度对HfO2薄膜的晶体结构和光学性能的影响。XRD研究结果显示:不同衬底温度下制备的H...
关键词：HfO薄膜 衬底温度 晶体结构 直流磁控反应溅射 折射率 光学带隙 
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