唐卫国

作品数：1被引量：4H指数：1
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供职机构：兰州大学物理科学与技术学院更多>>
发文主题：TIALN多弧离子镀脉冲偏压熔滴TIN更多>>
发文领域：一般工业技术更多>>
发文期刊：《深圳大学学报（理工版）》更多>>
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脉冲偏压对TiAlN/TiN多层膜生长及熔滴的影响被引量：4
《深圳大学学报（理工版）》2007年第4期410-413,共4页宫永辉 毛延发 唐卫国 刘金良 冯博学 韩培刚 
深圳大学科研启动基金资助项目(200536)
针对直流脉冲负偏压对PVD涂层形成过程和熔滴造成很大影响的问题,通过施加脉冲偏压有利于实现低温沉积.研究发现,沉积速率随直流脉冲负偏压峰值的提高先升高后降低,在-300V偏压时沉积速率最大;熔滴密度和直径随脉冲负偏压峰值的提高递减...
关键词：脉冲偏压 TiAlN/TiN膜 生长过程 熔滴 多弧离子镀 
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