李成福

作品数：4被引量：29H指数：2
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供职机构：哈尔滨工业大学机电工程学院更多>>
发文主题：光学元件熔石英激光损伤阈值亚表面激光制造更多>>
发文领域：金属学及工艺更多>>
发文期刊：《佳木斯大学学报（自然科学版）》《中国激光》《强激光与粒子束》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国防基础科研计划更多>>
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化学刻蚀工艺参数对刻蚀速率的影响
《佳木斯大学学报（自然科学版）》2017年第3期409-412,共4页王洪祥 沈璐 王晓霞 李成福 
国家自然科学基金(51475106);国家自然科学基金与中物院联合基金(U1230110)
本文系统分析了化学刻蚀过程中反应生成的扩散和物质传输规律,得到了刻蚀工艺参数如时间、温度、HF酸浓度、辅助试剂对刻蚀速率的影响规律。结果表明:在刻蚀时间较短时刻蚀速率基本恒定,随着时间的增加刻蚀速率呈现逐渐下降的趋势。温...
关键词：化学刻蚀 刻蚀速率 工艺参数 熔石英元件 亚表面裂纹 
光学元件激光诱导损伤分析及实验研究被引量：18
《中国激光》2017年第3期92-98,共7页王洪祥 沈璐 李成福 白桦 周岩 
国家自然科学基金(51475106;51475119);国防基础科研科学挑战专题(JCKY2016212A506-0503)
通过激光损伤实验,系统分析了传统研磨抛光加工工艺中表面杂质、刻蚀时间、亚表层缺陷和划痕宽深比对熔石英元件激光损伤阈值的影响。结果表明:擦洗后熔石英元件的激光损伤阈值为21.6J/cm^2,未经擦洗的元件的激光损伤阈值为11.28J/cm^2...
关键词：激光制造 激光损伤阈值 表层杂质 亚表面缺陷 化学刻蚀 
光学元件兆声辅助化学刻蚀工艺参数优化被引量：3
《强激光与粒子束》2015年第11期123-127,共5页王洪祥 李成福 周岩 袁志刚 徐曦 钟波 
国家自然科学基金项目(51475106);国家自然科学基金委员会与中国工程物理研究院联合基金项目(U1230110);超精密加工技术重点实验室开放基金项目(KF14007)
对传统的静态刻蚀方法进行了改进,提出了一种光学元件兆声辅助化学刻蚀新方法,并对传统静态刻蚀与兆声辅助化学刻蚀效果进行了对比分析,综合考虑刻蚀液的配比、刻蚀时间、添加活性剂种类和功率对光学元件激光损伤阈值的影响,通过正交设...
关键词：化学刻蚀 亚表面缺陷 激光损伤阈值 熔石英元件 兆声辅助刻蚀 
光学元件亚表面缺陷的损伤性检测方法被引量：11
《强激光与粒子束》2014年第12期129-133,共5页王洪祥 李成福 朱本温 王景贺 
国家自然科学基金委员会与中国工程物理研究院联合基金项目(U1230110);国家自然科学基金项目(51475106);中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室开放基金项目(KF14007)
在磨削、研磨和抛光加工过程中产生的微裂纹、划痕、残余应力等亚表面缺陷会导致熔石英元件抗激光损伤能力下降,如何快速、准确地检测亚表面损伤成为光学领域亟待解决的关键问题。采用HF酸蚀刻法、角度抛光法和磁流变斜面抛光法对熔石...
关键词：熔石英元件 亚表面缺陷 研磨加工 损伤性检测 亚表面裂纹 
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