林宏

作品数：1被引量：1H指数：1
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供职机构：上海交通大学更多>>
发文主题：光刻胶纳米尺寸紫外纳米压印更多>>
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新型高抗粘紫外纳米压印光刻胶的工艺研究被引量：1
《微纳电子技术》2010年第3期179-182,192,共5页李中杰 林宏 姜学松 王庆康 印杰 
国家863项目(2006AA4Z334);上海市纳米科技专项(0852nm06600)
为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完...
关键词：紫外纳米压印 微/纳米尺寸图形 硅片衬底修饰 抗粘连层 图案复制 
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