滑伟

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供职机构：中山大学中法核工程与技术学院更多>>
发文主题：MEMS干法刻蚀光刻微机电系统微电子工艺更多>>
发文领域：理学电子电信机械工程更多>>
发文期刊：《光学精密工程》更多>>
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高精度石英全息透镜的MEMS工艺制作
《光学精密工程》2015年第11期3107-3113,共7页韩励想 滑伟 马建设 苏萍 
深圳市基础研究项目(No.JCYJ20140417115840236);广东省产学研合作专项资金资助项目(No.2012B091100102)
通过微电子机械技术(MEMS)在抛光的熔融石英基材表面制作了平面精度达到0.4μm的超大单片面积的全息透镜。采用了分辨率达到0.2μm的步进投影式拼接光刻,适合石英基材的专用等离子耦合刻蚀(ICP)干法刻蚀技术,特殊的物理清洗方法,以及相...
关键词：微电子工艺 光刻 全息透镜 等离子耦合干法刻蚀 微机电系统(MEMS) 
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