云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 杨晶晶

杨晶晶: 作品数：1被引量：1H指数：1; 导出分析报告; 供职机构：哈尔滨工业大学更多>>; 发文主题：磁控溅射沉积磁控钒高功率脉冲工件表面更多>>; 发文领域：一般工业技术更多>>; 发文期刊：《稀有金属材料与工程》更多>>; 所获基金：国家自然科学基金更多>>

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凹槽工件表面常规磁控与高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜的研究(英文)被引量：1: 《稀有金属材料与工程》2013年第12期2437-2441,共5页李春伟田修波刘天伟秦建伟杨晶晶巩春志杨士勤; Foundation item:National Natural Science Foundation of China(51175118);Project supported by the open foundation of Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory(SPC201104); 高功率脉冲磁控溅射是一种制备高质量薄膜的新兴方法。在相同的平均功率下分别采用HPPMS技术和传统DCMS技术在凹槽工件表面制备了钒薄膜。对比研究了两种方法下的等离子体组成、薄膜的晶体结构、表面形貌及膜层厚度的异同。结果表明:HP...; 关键词：高功率脉冲磁控溅射凹槽工件钒薄膜均匀性膜厚