李进喜

作品数：1被引量：1H指数：1
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光敏BCB光刻图形化工艺研究被引量：1
《电子工艺技术》2016年第5期264-266,310,共4页王凤丹 王英 刘民 付学成 李进喜 沈赟靓 马玲 
国家自然科学基金资助项目(项目编号:81270209)
光敏BCB-苯并环丁烯(benzocyclobutene)具有低介电常数、低介电损耗、低吸湿率、高热稳定性、良好的化学稳定性以及高薄膜平整度和低固化温度等优良的加工性能,在现代微电子制造封装工艺中有非常重要的应用,常用作各类器件钝化防护和层...
关键词：光敏BCB 光刻工艺 前烘 形貌 曝光 
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