聂晶

作品数：1被引量：2H指数：1
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低磁控溅射率MCP防离子反馈膜工艺研究被引量：2
《应用光学》2008年第3期360-363,共4页朱宇峰 张太民 聂晶 师宏立 
为消除反馈正离子对三代微光夜视器件光阴极的有害轰击，提高微光像增强器的工作寿命，开展了低磁控溅射率法沉积微通道板（MCP）Al2O3防离子反馈膜的工艺研究。通过优化制备工艺，获得了制备MCP防离子反馈膜的最佳沉积条件：溅射电压10...
关键词：磁控溅射 微通道板(MCP) 防离子反馈膜 
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