集成电路设备的新挑战  

作　　者：蒋迪宝 

机构地区：[1]北京七星华创微电子有限公司

出　　处：《中国集成电路》2002年第3期54-57,共4页China lntegrated Circuit

摘　　要：一、概述集成电路按照摩尔定律已经发展了30多年,从光学曝光的技术来看,集成电路似乎已经到了极限。但是技术的一再进步使人们又充满信心,不仅0.1μm已经突破,还要发展到0.

关 键 词：集成电路制造 关键设备 光学曝光 工艺技术 集成电路生产 离子注入机 刻蚀设备 高密度等离子体 深亚微米 发展 

分 类 号：F416.63[经济管理—产业经济]