深刻蚀的利器——ICP  

作　　者：陈浩 朱桂枫 谢嘉明 陈海明 

机构地区：[1]镭社半导体设备上海200000

出　　处：《集成电路应用》2002年第9期48-51,共4页Application of IC

摘　　要：等离子刻蚀技术作为一门较新的技术在半导体集成电路MEMS、光通讯技术及传感器制作等领域广泛应用。

关 键 词：等离子刻蚀技术 ICP 半导体集成电路 光通讯技术 干法刻蚀 工艺控制参数 硅深刻蚀 

分 类 号：TN405.982[电子电信—微电子学与固体电子学]