检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]镭社半导体设备上海200000
出 处:《集成电路应用》2002年第9期48-51,共4页Application of IC
摘 要:等离子刻蚀技术作为一门较新的技术在半导体集成电路MEMS、光通讯技术及传感器制作等领域广泛应用。
关 键 词:等离子刻蚀技术 ICP 半导体集成电路 光通讯技术 干法刻蚀 工艺控制参数 硅深刻蚀
分 类 号:TN405.982[电子电信—微电子学与固体电子学]
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