微波ECR等离子体特性及其对DLC膜性能的影响  

Influence of Properties of Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma on Diamond-Like Carbon Film Deposition

作　　者：陈小锰[1] 邓新绿[1] 张治国[1] 刘天伟[1] 丁万昱[1] 徐军[1] 

机构地区：[1]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连116024

出　　处：《真空科学与技术学报》2005年第2期146-149,共4页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金(No.50135040;50390060)

摘　　要：为了解并优化在微波ECR等离子体增强化学气相沉积制备类金刚石膜工艺研究中的等离子体特性,利用朗缪尔探针法系统地测量了等离子体密度(Ne)、电子温度(Te)随工作气压(p)变化的关系。DLC膜的结构和性能依赖于沉积条件,提高等离子体密度有利于DLC膜的生长。本文示出了不同的CH4流量时,DLC膜的拉曼光谱和表面均方根粗糙度Rrms变化曲线,阐述了等离子体密度Ne、电子温度Te对DLC膜结构和性能的影响。Various properties of microwave electron cyclotron resonance (ECR) plasma, including gas flow rate, plasma density and dependence of electron temperature on gas pressure, were measured with Langmuir probe to improve diamond-like carbon (DLC) film growth. We found that film growth conditions considerably affect microstructure and quality of DLC film. For example higher plasma density favors DLC film growth.

关 键 词：等离子体特性 ECR 等离子体增强化学气相沉积 微波 膜性能 等离子体密度 结构和性能 DLC膜 均方根粗糙度 电子温度 类金刚石膜 工艺研究 工作气压 沉积条件 变化曲线 拉曼光谱 探针法 CH4 表面 

分 类 号：O531[理学—等离子体物理] TL612[理学—物理]