微波等离子体化学气相沉积金刚石膜  

作　　者：胡海天[1] 邬钦崇[1] 盛奕建[1] 

机构地区：[1]中国科学院等离子体物理研究所,中国科学技术大学无线电电子学系

出　　处：《物理》1996年第11期688-696,共9页Physics

摘　　要：微波等离子体化学气相沉积（ＭＰＣＶＤ）是制备金刚石膜的一个重要方法，能制备出表面光滑平整的大面积均匀金刚石膜。文章概述了ＭＰＣＶＤ制备金刚石膜的情况，介绍了ＭＰＣＶＤ制备金刚石膜装置的典型类型及其特点。在国内研制成功天线耦合石英钟罩式ＭＰＣＶＤ制备金刚石膜装置，并在硅片上沉积出大面积均匀的优质金刚石膜。这种ＭＰＣＶＤ装置对金刚石膜的开发应用具有重要意义。

关 键 词：微波等离子体 化学气相沉积 金刚石膜 

分 类 号：TN304.18[电子电信—物理电子学] TN304.055