邬钦崇

作品数：63被引量：223H指数：8
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供职机构：中国科学院等离子体物理研究所更多>>
发文主题：金刚石薄膜等离子体化学气相沉积金刚石微波等离子体更多>>
发文领域：理学电子电信一般工业技术金属学及工艺更多>>
发文期刊：《半导体技术》《物理化学学报》《微小型计算机开发与应用》《科学通报》更多>>
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离子注入生物实验的计算机控制技术研究
《真空》2002年第4期22-25,共4页卢超 余增亮 邬钦崇 
国家九五攻关项目"离子束应用技术研究"(项目号 :96- 5 38)资助
离子注入生物诱变是不同于传统辐射生物学的人工诱变新方法。在离子注入生物诱变实验中 ,真空室真空度及其稳定性影响着生物样品的存活状态 ;注入剂量决定着生物样品的辐射损伤程度 ,是要求精确测量并控制的重要参量。本文介绍了以单片...
关键词：计算机控制 生物诱变实验 离子注入剂量 辐射生物学 软件 硬件 
氧气对MWPCVD制备金刚石膜的影响被引量：8
《真空科学与技术》2001年第4期281-284,290,共5页舒兴胜 邬钦崇 梁荣庆 
8 6 3计划资助项目 (86 3 715 0 0 2 0 0 2 0 )
在水冷反应室式微波等离子体化学气相沉积装置中以混合的CH4 H2 O2 为反应气体 ,研究了O2 浓度对制备金刚石膜的影响。实验发现 ,很低浓度的O2 会显著促进金刚石的沉积 ,并稍稍抑制非晶C的沉积 ,因而沉积膜中非晶C的含量急剧下降 ;较...
关键词：微波等离子体化学气相沉积 金刚石膜 氧气 制备 浓度 抑制作用 非晶碳 
MWPCVD制备金刚石膜装置的大功率稳定运行的研究
《高技术通讯》2001年第7期88-90,共3页舒兴胜 邬钦崇 
863计划资助项目 (863-715- 002-0020)
介绍了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜装置的结构和工作原理 ,着重讨论了该装置长时间大功率稳定运行的措施。该装置在微波输入功率为 3 0kW时能长时间稳定运行。
关键词：MWPCVD装置 稳定运行 微波功率 金刚石膜 薄膜制备装置 结构 
CVD条件对金刚石薄膜/钼基体界面层的影响被引量：3
《武汉化工学院学报》2001年第3期39-42,共4页马志斌 汪建华 邬钦崇 
国家 8 63计划资助项目 ( 863 71 5 0 0 2 0 0 2 0 )
用微波等离子体化学气相沉积法 ( MPCVD)在 Mo基片上沉积金刚石薄膜时 ,界面层钼的碳化程度与初始沉积条件有关 .利用 XRD,SEM,EDS对界面层进行的研究表明 :在化学气相沉积的开始阶段 ,较低的甲烷浓度有利于碳向基体内的扩散从而让表面...
关键词：化学气相沉积 界面层 碳化物 CVD条件 金刚石薄膜 钼基体 
WC-Co硬质合金上高质量金刚石薄膜的制备被引量：1
《武汉化工学院学报》2001年第2期44-46,49,共4页马志斌 汪建华 邬钦崇 王传新 
湖北省教委资助项目! (项目编号 :99z0 2 2 )
采用微波等离子体化学气相沉积法在硬质合金基体上制备金刚石薄膜 .研究了铜过渡层和酸蚀脱钴两种基体前处理工艺以及在施加铜过渡层的情况下 ,不同的沉积气压和基片温度对金刚石薄膜的质量的影响 .结果表明 :在施加铜过渡层后 ,在适中...
关键词：金刚石薄膜 硬质合金 薄膜质量 制备 微波等离子体化学气相沉积法 
反应气压对MWPCVD金刚石膜中非金刚石相碳含量的影响被引量：2
《真空科学与技术》2001年第2期162-165,共4页舒兴胜 邬钦崇 梁荣庆 
8 63计划资助项目! (863 715 0 0 2 0 0 2 0 )
在水冷反应室式MWPCVD装置中以CH4 和H2 为反应气体进行了金刚石膜的沉积实验 ,研究了反应气体的压强对金刚石膜中非金刚石碳相含量的影响。实验发现 ,当微波输入功率较小时 ,随着反应气压的上升 ,沉积膜中非金刚石相碳的含量单调下降 ...
关键词：微波等离子体化学气相沉积 金刚石膜 气压 非金刚石相 碳含量 制备 
WC-Co硬质合金表面不同去钴预处理方法的比较研究被引量：1
《真空科学与技术》2001年第1期71-73,70,共4页俞世吉 丁振峰 马腾才 邬钦崇 
8 6 3计划资助项目
用微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)制备金刚石薄膜涂层之前 ,采用盐酸、硝酸化学腐蚀和氢 氧等离子体对WC Co硬质合金 (YG6 )基体表面进行去钴预处理。扫描电子显微镜形貌观察和X射线衍射谱分析都表明 ,与化学腐蚀方法相比 ,氢 氧等...
关键词：WC-CO硬质合金 去钴预处理 氢-氧等离子体 表面处理 金刚石薄膜 MWPCVD 
水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜装置研制被引量：1
《真空与低温》2001年第1期15-17,20,共4页舒兴胜 邬钦崇 
国家 863计划资助项目!项目号: 715- 002- 0020
微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积，研制成功了水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜的装置。装置在微波输入功率为 3.0 kW时能长时间稳定运行，并在硅衬底上沉积出金...
关键词：MWPCVD装置 稳定运行 金刚石膜 制备装置 微波等离子体化学气相沉积 
化学气相沉积法制备金刚石薄膜的工业应用被引量：1
《材料导报》2001年第3期24-27,共4页马志斌 邬钦崇 汪建华 
评述了金刚石薄膜的化学气相沉积方法。介绍了金刚石薄膜在工业中的应用前景,并分析了大规模应用所面临的技术困难。
关键词：金刚石薄膜 化学气相沉积 工业应用 制备 性质 
高精度快响应大功率磁控管微波源的研制被引量：3
《真空电子技术》2000年第6期1-4,共4页舒兴胜 邬钦崇 周永成 
提出一种稳定磁控管微波功率源输出功率的方法 ,设计了由半桥型开关电源和非可控三相桥式整流器串联组成的高精度快响应的大功率磁控管微波源系统 ,并结合实验分析了系统的性能指标。
关键词：磁控管 微波功率源 输出功率 开关电源 整流器 
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