光刻模拟引领技术前沿  

作　　者：Aaron Hand 

机构地区：[1]Semiconductor International

出　　处：《集成电路应用》2006年第9期23-29,共7页Application of IC

摘　　要：随着半导体制造工艺迈进130纳米乃至更先进的技术节点,光刻技术由一门技术转变为一项科学已经成为一种无法逆转的趋势。现在生产商们正致力于提高技术的研发速度和成功率力求进一步提高产品的合格率以及尽早的抢占市场。

关 键 词：模拟技术 光刻模拟 技术发展趋势 集成电路芯片 光刻技术 光刻工艺 电路元件 复杂程度 优化表 光波长 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] U483[交通运输工程—载运工具运用工程]