反转光刻对分辨率增强技术的新威胁  

作　　者：Aaron Hand 

机构地区：[1]Semiconductor International

出　　处：《集成电路应用》2007年第7期23-23,共1页Application of IC

摘　　要：当Luminescent Technologies公司在2005年的光掩膜技术会议上首次向半导体业界展示其独特的光刻增强产品时，与会人士提出了许多关于可制造性的问题。当时，大约在一年半以前，这个初创公司声称它的反转式光刻技术（Inverse Lithography Technology．ILT）能够突破性地取代分辨率增强技术（RET）软件，并展示了它们在65nm工艺的成果。虽然他们与SMIC、UMC、Xilinx和Cypress等不同合作伙伴发表了多篇相关论文，但似乎并非人人都接受这个想法。

关 键 词：分辨率增强技术 光刻技术 反转式 TECHNOLOGY CYPRESS 威胁 65nm工艺 XILINX 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]