EUV掩膜版清洗——Intel的解决之道  

作　　者：Aaron Hand 

出　　处：《集成电路应用》2008年第6期I0001-I0001,共1页Application of IC

摘　　要：对于极紫外（EUV）光刻技术而言，掩膜版相关的一系列问题是其发展道路上必须跨越的鸿沟．而在这些之中又以如何解决掩膜版表面多层抗反射膜的污染问题最为关键。自然界中普遍存在的碳和氧元素对于EUV光线具有极强的吸收能力，在Texas州Austin召开的表面预处理和清洗会议上，针对EUV掩膜版清洗方面遇到的问题和挑战，

关 键 词：掩膜版 EUV 清洗 表面预处理 光刻技术 污染问题 抗反射膜 吸收能力 

分 类 号：TP212[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置] TP332[自动化与计算机技术—控制科学与工程]