道康宁公司电子部推出XR-1541电子束光刻剂聚集下一代光刻技术  

出　　处：《微纳电子技术》2008年第8期497-497,共1页Micronanoelectronic Technology

关 键 词：下一代光刻技术 美国道康宁公司 电子束光刻 聚集 技术开发 光刻工艺 供应商 DOW 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TQ333.93[化学工程—橡胶工业]