微波方法制备(100)晶面取向的金刚石薄膜  

作　　者：顾长志[1] 金曾孙[1] 吕宪义[1] 邹广田[1] 坂本幸弘[2] 高谷松文[2] 

机构地区：[1]吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春130023 [2]日本千叶工业大学精密机械工学科

出　　处：《科学通报》1998年第6期647-651,共5页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家教委博士点基金!(批准号 :951830 7)资助项目

摘　　要：采用MWPCVD制备金刚石膜的方法 ,以甲烷和一氧化碳为碳源气体 ,在适当的衬底温度与反应气体配比条件下 ,通过使衬底匀速转动 ,合成出具有 (10 0 )晶面取向的均匀生长的金刚石薄膜 ,在优化的工艺条件下这种定向金刚石膜的生长与单晶硅衬底的类型没有明显的直接关系 .

关 键 词：金刚石膜 定向生长 MWPCVD 微波法 制备 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TB43[理学—物理]