X射线光刻技术的研究与开发进展  

出　　处：《电子材料与电子技术》1999年第1期67-68,共2页Electronic Material & Electronic Technology

关 键 词：光刻 X射线光刻技术 半导体器件 掩模 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]