磁控溅射沉积纳米结构银薄膜及其表征  

作　　者：吴浩[1] 熊玉卿[1] 孙岩 郭云[1] 杨得全[1] 达道安[1] 

机构地区：[1]中国空间技术研究院兰州物理研究所应用表面物理实验室

出　　处：《真空电子技术》1999年第4期43-47,共5页Vacuum Electronics

摘　　要：本文通过利用射频磁控溅射方法，选择和控制沉积薄膜工艺参数，在石英（ｑｕａｒｔｚ）和高定向热解石墨（ＨＯＰＧ）上制备出纳米尺度的银膜。利用扫描隧道显微镜（ＳＴＭ）对银膜的表面形貌和分布观察分析可得，纳米银颗粒的直径在３ｎｍ到２０ｎｍ之间。经过紫外－可见－近红外透射光谱（ＵＶ－ＶＩＳ－ＮＩＲ）测量证明：当纳米银颗粒的粒径在此范围内时，银膜的光学特征吸收峰的位置随着粒径的增大“红移”不大，但其半峰宽却随粒径的增大而增大。

关 键 词：纳米结构薄膜 光学吸收 纳米银颗粒 STM 

分 类 号：O48[理学—固体物理] TH742.06[理学—物理]