衰减相移掩模及其编码制作方法研究  

Research of Attenuated Phase- Shifting M ask and Its Encoding M aking M ethod

作　　者：周崇喜[1] 冯伯儒[1] 侯德胜[1] 张锦[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209

出　　处：《光学学报》1999年第8期1110-1113,共4页Acta Optica Sinica

基　　金：中国科学院"九.五"应用研究与发展重大项目

摘　　要：在霍普金斯（ Ｈｏｐｋｉｎｓ）理论的基础上， 对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算表明， 衰减相移掩模有提高光刻分辨率的显著功能。提出一种制作衰减相移掩模的编码方法， 理论计算表明， 该编码方法能够达到预定的衰减参数。Attenuated phase shifting m ask ( P S M ) and that w ith optical proxim ity correc tion are adopted to im prove resolution ofphotolithography based on som e calculation results. And a new m ethod of m aking attenuated P S M by encoding is proposed, and the theoreticalcalculation results are accordant to that of the conventional attenuated m ask.

关 键 词：衰减相移掩模 光学邻近效应 校正 编码 光刻 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]