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检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:贾文博[1] 李培咸[1] 周小伟[1] 杨扬[1]
机构地区:[1]西安电子科技大学技术物理学院,陕西西安710071
出 处:《电子科技》2013年第1期10-11,共2页Electronic Science and Technology
摘 要:通过对InGaN三元合金的生长方式做对比,发现在相同条件下,因常规生长过程中反应室In的浓度更高,生长出的InGaN中In组分更高。但是由于预反应的原因晶体质量较差,而脉冲生长由于源的分时输运,大幅减小了预反应的发生,提高了晶体质量。但由于生长时反应室In原子浓度变小,In的组分会降低,也会减小In滴的析出。In this paper, the methods of InGaN alloy growth are compared. It is found that by conventional method the InGaN alloy tends to have a higher component because of a higher concentration of In atoms in the cham- ber but results in a poor crystallization quality as the pre-reaction. The one grown by pulse method tends to have a lower component of In and In drop because of a lower concentration of In atoms in the chamber but results in a good crystallization quality as the reduction of pre-reaction.
分 类 号:TN304.23[电子电信—物理电子学]
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