深亚微米集成电路工艺的合格率问题  

作　　者：王家楫[1] 倪锦峰[1] 杨军[1] 

机构地区：[1]复旦大学国家微分析中心,上海200433

出　　处：《集成电路应用》2002年第3期49-53,共5页Application of IC

摘　　要：前言 90年代以来,集成电路遵循着摩尔(Moore)定律高速发展,0.18μm工艺已日趋成熟,0.13μm 12″硅片等更先进技术也将很快进入大生产应用。日益增加的生产设备投资,日益缩短的技术换代周期,使得半导体产业在高资本投入和高人力投入同时也带来了高风险。人们将更多地关注集成电路生产中的合格率问题。

关 键 词：深亚微米 集成电路 工艺 合格率 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]