光刻机微动台的运动解耦及位置控制研究  

Research on the Motion Decoupling and Position Control of Lithography Micro-Motion Stage

作　　者：魏凯[1] 王伟峰[1] 范文超[1] 陈兴林[1] 

机构地区：[1]哈尔滨工业大学航天学院,黑龙江哈尔滨150001

出　　处：《自动化技术与应用》2015年第7期30-35,共6页Techniques of Automation and Applications

基　　金：国家极大规模集成电路制造装备与成套工艺的国家重大科技专项(2009ZX02207)

摘　　要：在分析了光刻机掩膜台微动台(简称微动台)结构的基础上,对微动台的六自由度运动进行了几何解耦,将其分解为两个三自由度上的解耦,并从实际系统的角度出发完成了解耦计算。最后针对微动音圈电机位置控制,提出了基于线性扩张状态观测器的增量式PID控制,并取得了良好的控制效果。On the base of the analysis of micro-motion stage in lithography reticle stage,this paper does geometry decoupling for the 6-DOF motion of micro-motion stage by decomposing it into two parts of calculation in 3-DOF, and accomplishes the calculation for the actual system. Then this paper combines LESO and incremental PID control into the position control of VCM and achieves excellent control effect.

关 键 词：微动台 运动解耦 扩张状态观测器 增量式PID 

分 类 号：TP273.3[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]