中微交付韩国用于3D VNAND闪存工艺的先进刻蚀机  

出　　处：《中国集成电路》2015年第8期10-10,共1页China lntegrated Circuit

摘　　要：中微半导体设备有限公司（中微）日前宣布中微单反应台等离子体刻蚀设备（PrimoSSCAD-RIE-TM）已交付韩斟领先的存储器制造商。PrimoSS-CAD-RIE-TM是中微公司目前最先进的介质刻蚀设备，可用于1Xnm关键刻蚀工艺芯片加工。

关 键 词：刻蚀工艺 NAND闪存 交付 刻蚀机 3D 韩国 刻蚀设备 半导体设备 

分 类 号：TN405.983[电子电信—微电子学与固体电子学]